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Polo de concours RiderTechnologie - EQUESTRO Protection solaire Facile à appliquer aux endroits
Polo de concours RiderTechnologie - EQUESTRO Protection solaire Facile à appliquer aux endroits
$123.00
Description
Facile à appliquer aux endroits difficiles d’accès
Pour étriers GC et Safe On Ultra Gripp
mais particulièrement pour les chevaux convalescents
Contient: camphre
énergie et endurance
Polo de concours RiderTechnologie - EQUESTRO Protection solaire Facile à appliquer aux endroitsPolo de comptition femme coupe slim manches courtes en tissu technique respirant et coutures thermosoudes, point fort de la collection Equestro Ridertechnology. Ce vtement est fabriqu avec un tissu innovant qui offre respirabilit et lasticit, garantissant une libert de mouvement maximale. La coupe ajuste pouse les courbes du corps, accentuant la silhouette fminine et offrant un look frais et performant. Le polo est quip d'inserts en tissu nid
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