G05200 - SEMI G52 - 半導体リードフレームのイオン汚染物の測定のための標準測定法（提案） Revision:SEMI G52-90 (Reapproved 1104) - Superseded the position of the substrate

the position of the substrate

SEMI MF154-1105 (technical revision)

orgで入手可能となる。初版は1995年発行。前版は2005年11月発行。

This Guide contains definitions of terms and procedures for determining the leak rates of MFCs as used in the semiconductor industry

associated support equipment and facilities infrastructure equipment function within acceptable ranges

G05200 - SEMI G52 - 半導体リードフレームのイオン汚染物の測定のための標準測定法（提案） Revision:SEMI G52-90 (Reapproved 1104) - Superseded the position of the substrateGlobal Assembly and Packaging CommitteeJapanese Packaging Committee2004723Japanese Regional Standards Committee20049www. semi. org2004111990 Na+NH4+K+Cl NO3 Br SO42 PO43 Referenced SEMI Standards None.