F06200 - SEMI F62 - 周囲およびガス温度の影響からマスフローコントローラ性能特性を決定する試験方法 Revision:SEMI F62-0701 (Reapproved 1111) - Superseded 1 This Test Method presents

1  This Test Method presents a procedure for measuring step heights of thin films using step height test structures

本スタンダードは，global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は2013年2月3日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2013年4月にwww

本スタンダードは，global Automated Test Committeeで技術的に承認されている。現版は2003年3月12日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2003年5月にwww

quantifies the near-edge curvature of wafers used in semiconductor device processing

orgで入手可能となる。

F06200 - SEMI F62 - 周囲およびガス温度の影響からマスフローコントローラ性能特性を決定する試験方法 Revision:SEMI F62-0701 (Reapproved 1111) - Superseded 1 This Test Method presentsglobal Gases Technical Committee2011912global Audits and Reviews Subcommittee201111www. semiviews. org www. semi. org2001720073 : MFCMFC Referenced SEMI Standards None.