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E12900 - SEMI E129 - Guide to Assess and Control Electrostatic Charge in a Semiconductor Manufacturing Facility Revision:SEMI E129-0709 - Superseded 本スタンダードは，global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は2010年1月20日，global AuditsThe purpose of this Guide is to minimize the negative impact on productivity caused by static charge and electric fields in semiconductor manufacturing environments. It is a guide for establishing electrostatic compatibility in facilities used for semiconductor manufacturing. Electrostatic compatibility of production equipment is addressed in SEMI E78. Electrostatic surface charge causes a number of undesirable effects in semiconductor manufacturing